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所屬區(qū)域： 湖南-湘潭 加入時(shí)間： 2017.11.27
項(xiàng)目性質(zhì)： 新建 進(jìn)展階段： 環(huán)境評(píng)估
投資金額： 1428.57萬(wàn)元 資金來(lái)源：
業(yè)主單位： 湖南正芯微電子探測(cè)器有限公司 設(shè)計(jì)/建設(shè)單位： /
項(xiàng)目所在地：湖南省湘潭市高新區(qū)雙擁路9號(hào)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園C區(qū)10棟4樓
主要建設(shè)內(nèi)容：湖南正芯微電子探測(cè)器有限公司投資1428.57萬(wàn)元，租賃湘潭市高新區(qū)雙擁路9號(hào)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園C區(qū)10棟4樓建設(shè)超純高阻硅特種芯片實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目，研發(fā)規(guī)模為年研制24片超純高阻硅X光探測(cè)器項(xiàng)目。項(xiàng)目占地面積為700m2，主要建設(shè)實(shí)驗(yàn)室、辦公室、會(huì)議室、氣源儲(chǔ)存室、化學(xué)品存儲(chǔ)室及公用輔助工程等。項(xiàng)目主要原材料為超純高阻硅晶片、超高純氧氣、超高純氮?dú)?、三氯乙?TCA)、光刻膠、顯影液、剝離液、硫酸、氫氟酸、雙氧水、鋁腐蝕液、活性炭等，主要設(shè)備包括氧化爐、雙面曝光機(jī)、甩干機(jī)、加熱臺(tái)、勻膠機(jī)、刻蝕柜、烘箱、磁控濺射儀、快速退火爐、晶相顯微鏡、去離子純水系統(tǒng)等，生產(chǎn)工藝包括氧化、勻膠、光刻、顯影、刻蝕、純水清洗、離子注入、剝離液清洗、強(qiáng)酸清洗、氮?dú)鉀_洗甩干、氧化爐退火、鍍鋁、檢驗(yàn)、密封保存、制作探測(cè)器（外委）等
項(xiàng)目簡(jiǎn)介：
湖南正芯微電子探測(cè)器有限公司投資1428.57萬(wàn)元，租賃湘潭市高新區(qū)雙擁路9號(hào)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園C區(qū)10棟4樓建設(shè)超純高阻硅特種芯片實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目，研發(fā)規(guī)模為年研制24片超純高阻硅X光探測(cè)器項(xiàng)目。項(xiàng)目占地面積為700m2，主要建設(shè)實(shí)驗(yàn)室、辦公室、會(huì)議室、氣源儲(chǔ)存室、化學(xué)品存儲(chǔ)室及公用輔助工程等。項(xiàng)目主要原材料為超純高阻硅晶片、超高純氧氣、超高純氮?dú)?、三氯乙?TCA)、光刻膠、顯影液、剝離液、硫酸、氫氟酸、雙氧水、鋁腐蝕液、活性炭等，主要設(shè)備包括氧化爐、雙面曝光機(jī)、甩干機(jī)、加熱臺(tái)、勻膠機(jī)、刻蝕柜、烘箱、磁控濺射儀、快速退火爐、晶相顯微鏡、去離子純水系統(tǒng)等，生產(chǎn)工藝包括氧化、勻膠、光刻、顯影、刻蝕、純水清洗、離子注入、剝離液清洗、強(qiáng)酸清洗、氮?dú)鉀_洗甩干、氧化爐退火、鍍鋁、檢驗(yàn)、密封保存、制作探測(cè)器（外委）等
企業(yè)性質(zhì)：股份制 申報(bào)方式：審批制 審批機(jī)關(guān)：湘潭環(huán)保局
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